探討無塵車間淨化對濕度的控（kòng）製

濕度控製是無塵車間生產必需具（jù）備的重要條件（jiàn），相對濕（shī）度是無塵車間、潔淨室運作過程（chéng）中（zhōng）一個常用的環境控製條件。半導體無塵車間（jiān）、潔淨室中的典型的相對濕度的目標值大約控（kòng）製在30至50%的範圍內，允（yǔn）許誤差在±1%的狹窄的範圍內，例如光刻區或（huò）者在遠紫外線處理(DUV)區甚至更小而在其他地方則可以放鬆到±5%的範圍內。
近年，在這些規定範圍中保持處理空（kōng）氣過程（chéng），相對濕度有一（yī）係列可能使（shǐ）潔淨室總體表（biǎo）現下降的因素，其中包括：
1、細菌生（shēng）長；
2、工作人員（yuán）感（gǎn）到室溫舒適的範圍；
3、出現靜電荷；
4、金屬腐蝕；
5、水汽冷凝；
6、光刻的退化；
7、吸水性。
細菌和其他生物汙（wū）染(黴菌，病（bìng）毒（dú），真菌，蟎蟲)在相對濕度超過60%的環（huán）境中可以活躍地繁殖。一些菌群（qún）在相對濕度超過30%時就可以增長。在相對濕度處於40%至（zhì）60%的範圍之間時，可以（yǐ）使細菌的影響以及呼吸（xī）道感染降（jiàng）至zui低。相（xiàng）對濕度在（zài）40%至60%的範圍同樣也是人類感（gǎn）覺舒適的（de）適度範圍（wéi）。濕度過高會使人覺得氣悶，而濕度低於30%則會讓人感覺幹燥，皮膚破裂，呼吸道不適以及情感（gǎn）上的不快。
高濕度實際上減小了無塵車間、潔淨室表麵（miàn）的靜電荷積累（lèi）──這（zhè）是大（dà）家希望的結果。較低的濕度比較適合電荷的積累並成（chéng）為潛在的具有（yǒu）破壞性的靜電釋放源。當相對濕度超過50%時，靜（jìng）電荷開始迅速消散，但是當（dāng）相（xiàng）對濕度小於30%時，它們可以在絕緣（yuán）體或者（zhě）未接地的表麵上持續存在很長（zhǎng）一段時間。相（xiàng）對濕度在35%到40%之間可以作為一個令人滿意的折中（zhōng），半導體無塵車間、潔淨（jìng）室（shì）一般都（dōu）使（shǐ）用額外的控製裝置以限製靜電荷的積（jī）累（lèi）。很多化學反應的速（sù）度，包括腐蝕過程，將隨著相對（duì）濕度的增高而加快。所有暴露在無塵車間（jiān）、潔淨室周圍空氣中的表麵都很快地被覆蓋上至少一層單分子層的（de）水。當這些表麵是由可以（yǐ）與水反應的薄金屬（shǔ）塗層組成時，高濕度可以使反應加速。幸運的是，一些金屬，例如鋁，可以與水形成一（yī）層保護型的氧化物，並阻止（zhǐ）進一步的氧化反應;但另一種情況是，例如氧化銅，是不具有保護能力的，因此，在高濕度的環境中，銅製表麵更容易受到腐蝕。在相對濕度較高的環境中，濃（nóng）縮水形的毛細管力在顆粒和表麵之間形成了連接鍵，可以增加顆粒（lì）與矽質表麵的黏附力。相對濕度小於（yú）50%時並不（bú）重要，但當（dāng）相對濕（shī）度在70%左右時（shí），就成為顆粒之間黏（nián）附的主要力量（liàng）。
到（dào）目前為止，在半（bàn）導體無塵車間（jiān）、潔淨室中zui迫切需要適（shì）當控製的是光刻膠的敏感性（xìng）。由於光刻膠對相對濕度極為敏感的特性，它對相對濕度的控製範（fàn）圍的要求是zui嚴格的水準。
實際上，相對濕度和溫度對於（yú）光刻膠穩定性以及的（de）尺寸控製都是很關鍵的。甚至是在恒溫條件下，光刻膠（jiāo）的粘性將隨著（zhe）相對濕度的上升而迅速下降（jiàng）。當然，改變粘性，就會改變（biàn）由固定組（zǔ）分塗層形成的保（bǎo）護膜的厚（hòu）度。相對濕度的3%的變（biàn）異將（jiāng）使保護厚（hòu）度改變59.2A。
此外，在高（gāo）的相對濕度環境下（xià），由於水分的吸（xī）收，使（shǐ）烘烤（kǎo）循環後光刻（kè）膠膨脹加重。光刻（kè）膠附著力同樣也可以受（shòu）到較高的相（xiàng）對濕度的負麵影響。較低的相對濕度(約30%)使光刻膠附著更加容易，甚至不需要聚合改性劑，如六（liù）甲基二矽氮烷(HMDS)。